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基于超精密激光直寫系統制作二維光柵
李民康; 向顯嵩; 周常河; 韋春龍; 賈偉; 項長鋮; 魯云開; 朱世曜 中國科學院上海光學精密機械研究所信息光學與光電技術實驗室; 上海201800; 中國科學院大學材料與光電研究中心; 北京100049; 暨南大學光子技術研究院; 廣東廣州511443
關鍵詞：光柵 超精密系統 激光直寫 柵距測量
摘要：二維光柵是光刻機光柵尺系統的核心元件。搭建了超精密激光直寫系統,基于二維超精密工件臺,通過旋轉基片90°進行兩次曝光,制作出柵線密度為1200 line/mm的二維光柵掩模。原子力顯微鏡和掃描電鏡結果表明,所制作的掩模輪廓清晰,空間分布均勻。實驗結果證明了超精密激光直寫系統能夠制作出二維光柵掩模,在制作大尺寸、高精度二維計量光柵方面有著廣闊的應用前景。
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